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发布时间:2022-03-09 04:54:00 作者:和润环境





在一般工业清洗中,酸,碱和水的配合比较常见,有些金属用水洗要加入防锈剂;在精密和超精密工业清洗中。大部分要求将水制成纯净水。通常以电阻率来衡量水纯度。半导体工业要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生产10MΩ/cm就可以了,还有一些行业对细菌含量要求很严。近几年,中国部分地区严重缺水,对清洗用水提出了挑战。有的城市已经严禁用普通水洗车,而只能使用回收的中水,或者雾化水的节水设备。
通常含有5%一20%的水分,一般不烧,但加温清洗时水含量控制不当,可能产生燃烧现象。半水基型清洗与溶剂洗有一些不同,它的清洗原理是剥离去除,而不是溶解。为了防止已经剥落的油污再附到被清洗物上,清洗液要连续地循环,并增加油水分离器。半水洗通常清洗效果很好,但运行成本较高,废液不能再生回收,重复使用,含COD(化学耗氧量)较高,需要进行废水处理。
一个好的精密工业清洗剂必须具备以下条件:①化学性能稳定,不易与被清洗物发生反应;②表面张力和粘度小,渗透力强;③沸点低,可以自行干燥;④没有闪点,不;⑤KB值不应太高,避免与被清洗物相溶;⑥低毒性,使用安全;⑦非ODS和低GWP值(变 暖潜能值),环保。如果不考虑上述第7条。佳的清洗剂就是CFC和TCA。它们的化学稳定性好,可以长期保存不变质。
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